紫外臭氧清洗机

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简　　述：

紫外光清洗机是一种不需要任何的溶剂的干式清洗技术，同时对清洗表面没有损伤。我公司专业研发的大功率低压石英汞灯,产生184.9nm和253.7nm波长紫外线，去除石英，硅片，金，镍，铝，砷化镓，氧化铝等大多数无机基材上的有机污染物。

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　　紫外光清洗机是一种不需要任何的溶剂的干式清洗技术，同时对清洗表面没有损伤。

　　威德专业研发的大功率低压石英汞灯,产生184.9nm和253.7nm波长紫外线，去除石英，硅片，金，镍，铝，砷化镓，氧化铝等大多数无机基材上的有机污染物。

　　紫外光清洗机提供一种高效、精密的清洗方式，也是表面改性的一种非常重要的技术。应用于：表面处理、有机物清洗、改善表面亲水性、降低表面接触角、增加表面附着力、增强表面功函数等。

　　威德WD-UVO300紫外臭氧清洗机6大特点：

　　1、可调节样品台与UV灯距离

　　2、长寿命的低压汞格栅灯,灯管寿命大约为5000小时

　　3、效率更高-大功率低压石英水银灯让清洗只需几分钟即可达到原子级洁净度

　　4.更安全-清洗腔体打开时自动关闭UV灯，避免对人体产生伤害

　　5、更坚固美观-全不锈钢拉丝设计

　　6、节省空间-控制与反应腔体一体化设计，美观节省空间

　　7操作简单-内置微电脑控制器，让操作更简便，只需几下按钮即可完成清洗过程

参数表：

型号	WD-UVO300
光照尺寸	30CM*30CM
灯管材质	固态金属双波汞格灯
光源功率	250W
UV波长	同时产生253.7nm,184.9nm紫外波长
灯管使用寿命	约5000小时
结构:	箱体一体化不锈钢结构
电源:	220V/50hz
臭氧排气系统:	有臭氧排气系统
安全防护功能	带误操作自动保护功能
设备重量	28kg
应用邻域	ITO玻璃、光学玻璃、铬板、掩膜板、抛光石英晶体、硅晶片和带有氧化膜的金属等进行精密清洗处理，液晶显示器件、半导体硅晶片、集成电路、高精度印制电路板、光学器件、石英晶体、密封技术、带氧化膜的金属材料等有机物去除，有机性污垢、人体皮脂、化妆品油脂、树脂添加剂及聚酰亚胺、石蜡、松香、润滑油、残余的光刻胶等。还能对特定材料进行表面改性，增加浸润性。