8寸桌上型显影机
简 述：
威德 WD -TSD100D 桌上型显影机，用于曝光后光刻胶的显影，呈现光刻胶图案，适配 4寸晶圆。仪器本体采用镜面不锈钢板，腔体为耐腐蚀易维护的 PTFE 材质。配三路管路(显影液、水、气)，可选配显影液温度控制，以提升显影精度与速度。
产品型号：
- WD-TSD200D
威德WD-TSD200D桌上型显影机主要用于将曝光后的光刻胶进行显影处理，以将光刻胶上的图案显现出来，适用于8寸晶圆，仪器本体为镜面不锈钢板,腔体材质为PTFE，耐腐蚀易维护。配备三路管路（显影液、水、气），同时可选配显影液温度控制精确控制显影液温度可以提高显影的精度和速度。
特点：
1、7寸防蓝光触屏+进口电机，操作方便，质量更稳定2、有真空负压数值显示和低真空报警装置，有效提醒因负压不足带来飞片风险
3、提供工艺支持，避免购买不适宜产品带来损失风险
4、丰富的工艺参数设置：50 组工艺参数每组20 个步骤，可适应各种各样复杂的显影工艺
5、宽转速范围与高精度转速控制，可满足精度要求高的显影工艺
6、具备液位报警功能可以有效防止因显影液不足或液位异常而导致的显影失败
参数：
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型号 |
WD-TSD200D |
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适用晶元尺寸范围 |
Up to Ф200mm |
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转速 |
10~3000RPM |
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转速精度 |
±1RPM |
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控制方式 |
7寸触屏+PLC |
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管路 |
三路（显影液、水、气） |
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显影液温度控制 |
选配 |
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控制程序 |
50 组工艺参数每组20 个步骤 |
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机械摆臂 |
摆臂速度：0-30°/S、摆臂范围：0-145° |
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液位报警 |
配备 |
主要应用领域：
半导体制造领域
● 芯片制造：在光刻工艺中，桌上型显影机用于将曝光后的光刻胶进行显影，使光刻胶上的电路图案显现出来，为后续的蚀刻、离子注入等工艺提供精确的图形模板，从而制造出集成电路芯片。
● 半导体封装测试：在封装过程中，需要对光刻胶进行显影以制作出封装模具或进行芯片表面的光刻图案处理，确保芯片与外部电路的良好连接和封装的可靠性。
● 外层线路制作：在多层 PCB 的外层线路制作中，同样需要使用显影机进行光刻胶的显影，以实现精确的线路图形转移和阻焊层的制作，确保 PCB 板的电气性能和焊接质量。
● 生物医学研究：在生物芯片、微流控芯片等的制作中，桌上型显影机可用于将生物分子或细胞的固定、分离和检测等功能的微纳结构转移到芯片表面，为生物医学研究提供技术支持。
● 微透镜阵列制造：在微透镜阵列的制造中，桌上型显影机可将设计好的微透镜图案转移到光刻胶上，再通过热回流等工艺形成微透镜阵列，用于成像系统、激光加工等领域。
● 半导体封装测试：在封装过程中，需要对光刻胶进行显影以制作出封装模具或进行芯片表面的光刻图案处理，确保芯片与外部电路的良好连接和封装的可靠性。
印刷电路板（PCB）制造领域
● 内层线路制作：将设计好的电路图案通过光刻和显影工艺转移到覆铜板上，形成内层线路。● 外层线路制作：在多层 PCB 的外层线路制作中，同样需要使用显影机进行光刻胶的显影，以实现精确的线路图形转移和阻焊层的制作，确保 PCB 板的电气性能和焊接质量。
科研实验领域
● 材料研究：在材料科学研究中，如新型半导体材料、纳米材料、复合材料等的研发过程中，需要使用桌上型显影机进行光刻和显影，制作微纳结构或图案，研究材料的物理、化学和电学等性能。● 生物医学研究：在生物芯片、微流控芯片等的制作中，桌上型显影机可用于将生物分子或细胞的固定、分离和检测等功能的微纳结构转移到芯片表面，为生物医学研究提供技术支持。
光学元件制造领域
● 光刻光栅制造：用于制造高精度的光刻光栅，如衍射光栅、全息光栅等。通过光刻和显影工艺，将光栅图案转移到光学材料表面，然后通过后续的蚀刻等工艺制作出具有特定光学性能的光栅元件，广泛应用于光谱仪、光通信等领域。● 微透镜阵列制造：在微透镜阵列的制造中，桌上型显影机可将设计好的微透镜图案转移到光刻胶上，再通过热回流等工艺形成微透镜阵列，用于成像系统、激光加工等领域。
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