WD-ISC50真空离子溅射仪
简 述：
WD-ISC50真空离子溅射仪是根据磁控直流溅射原理设计而成，具有操作简单、稳定性强，经济耐用等优点，对比与常规二级溅射效率更高，适用溅射靶材种类更多。
产品型号：
- WD-ISC50
设备由以下几部分组成：真空腔体、上盖组件、固定在上盖上的阴极靶及放气阀、样品台、真空泵及阀门、真空计及其他电气组件。本设备配有触摸屏及PLC控制，工作气体可通过微调阀进去真空腔体，结构紧凑，操作方便。特别适用于电镜实验室的SEM样品制备和新材料研究的电极制备。
本系统采用触摸屏全自动一键式启动，规格说明如下：
1、靶材：各类金属靶材，直径50.8mm厚度0.1mm；
2、真空室：直径150mm，高度140mm；
3、溅射面积：50mm；
4、真空计：数字式真空计；
5、数字式电流显示：最大150mA;
6、定时器：0~99秒可设置；
7、微调阀：配6mm接管；
8、机械泵：2L/S；
400-880-3713
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